想请问一下 有没有详解各设备像是Polisher CDI UV MMF UF RO ACF能过滤那些物质 用的孔隙多少能过滤到什麽程度 因为自己查了好多资料 很多都是将近十年前资料 感觉很多说法都重复 像是MMF能过滤SS ACF也能过滤SS 离子 等等的 结果看另一个人的研究 也说UF RO等等的也能 CDI也是电解离子 看完之後真的有点雾煞煞 会感觉是每一个设备都差不多能过滤那些东西是不是.. 唯独只有UV我看说法较单一 就是杀菌 针对有机物 最了解的只有UV --

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