作者wide801222 (L.wide)
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標題[製程] ALD 沈積金屬薄膜（Ti/Al) 相關問題
時間Sat Mar 19 00:51:51 2016
各位大大，感謝你們看這邊文章
想請問是否有地方可以幫忙代工沈積金屬薄膜（Ti or Al)，利用PEALD來製作。
目前實驗室機台問題為 沈積出來的Al都氧化成Al2O3，利用退火還原氣氛也沒辦法還原，
查不出原因，請問各位有什麼解決方法嗎？
感謝各位
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1F：推 cary9998: 機台不改裝前提下：前驅物管路溫度、ALD 223.141.246.7 04/02 11:01
2F：→ cary9998: window抓一下（基板溫度）、bi-product 223.141.246.7 04/02 11:01
3F：→ cary9998: 移除時間增加（當然幫浦也會有影響）， 223.141.246.7 04/02 11:01
4F：→ cary9998: 你試過了嗎？ 223.141.246.7 04/02 11:01
5F：推 AQUAzero: 前驅物就有問題了吧 氧原子誰提供的咧? 140.112.25.106 04/06 17:50
6F：→ AQUAzero: 金屬薄膜 可以用蒸的 也可以濺上去 140.112.25.106 04/06 17:51
7F：→ AQUAzero: ALD耗時 了工 前驅物限制又多 140.112.25.106 04/06 17:52