作者wide801222 (L.wide)
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标题[制程] ALD 沈积金属薄膜（Ti/Al) 相关问题
时间Sat Mar 19 00:51:51 2016
各位大大，感谢你们看这边文章
想请问是否有地方可以帮忙代工沈积金属薄膜（Ti or Al)，利用PEALD来制作。
目前实验室机台问题为 沈积出来的Al都氧化成Al2O3，利用退火还原气氛也没办法还原，
查不出原因，请问各位有什麽解决方法吗？
感谢各位
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1F：推 cary9998: 机台不改装前提下：前驱物管路温度、ALD 223.141.246.7 04/02 11:01
2F：→ cary9998: window抓一下（基板温度）、bi-product 223.141.246.7 04/02 11:01
3F：→ cary9998: 移除时间增加（当然帮浦也会有影响）， 223.141.246.7 04/02 11:01
4F：→ cary9998: 你试过了吗？ 223.141.246.7 04/02 11:01
5F：推 AQUAzero: 前驱物就有问题了吧 氧原子谁提供的咧? 140.112.25.106 04/06 17:50
6F：→ AQUAzero: 金属薄膜 可以用蒸的 也可以溅上去 140.112.25.106 04/06 17:51
7F：→ AQUAzero: ALD耗时 了工 前驱物限制又多 140.112.25.106 04/06 17:52