作者momotea0326 (摸摸茶)
看板ChemEng
標題[材料] AZO濺鍍薄膜問題 緊急求救
時間Sun Feb 16 19:53:40 2014
小弟先附上相關資料
AZO氧化鋅鋁(2%Al)(德制,可採用DC鍍制薄膜)
DC POWER 50~150W
製程壓力20mtorr~5mtorr
基板溫度為100,200,300,400度
小弟先附上相關資料
AZO氧化鋅鋁(2%Al)(德制,可採用DC鍍制薄膜)
三吋靶
DC POWER 50~150W
製程壓力20mtorr~5mtorr
基板溫度為100,200,300,400度
利用純氬氣進行壓力調整
三吋靶
DC POWER 50~150W
製程壓力20mtorr~5mtorr
基板溫度為100,200,300,400度
利用純氬氣進行壓力調整
製程時間為40min
有使用sem及a-step去確認膜厚至少300nm以上
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但無論怎麼調整參數得到的阻值都是k ohm級別(採用四點探針)
甚至熱退火過(200 400度都試過)
阻值仍然降不下去!
而且電阻率根本量測不到(霍爾)
已經換過兩次靶材了,確認並不是材料問題
至於為何不採用RF呢...有試過 沒一塊有阻值的 也就是變成絕緣體了!
現在小弟唯一能想到的癥結點只剩下
1.基版為普通素玻璃(知識不足不知是否有差異)
2.機台問題(但找不出原因)
懇求各位專業人士們提供其他可能導致此結果的原因T_T
已經快被幹掉了QAQ!
非常感謝><"
參考其他人的文獻至少能做出100 Ohm以內的薄膜..
實在不懂為何如此悽慘
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 120.117.76.209
1F：→ elfishdevil:1.背景真空度? 2.濺鍍壓力可以更低點 125.231.216.38 03/15 22:29
2F：→ elfishdevil:(1mtorr) 3.溫度100~200就差不多了 125.231.216.38 03/15 22:30
3F：→ elfishdevil:4.先鍍厚一點(500nm以上) 125.231.216.38 03/15 22:31
4F：→ elfishdevil:一般來說我覺得1機會最高，一點點氧就 125.231.216.38 03/15 22:32
5F：→ elfishdevil:差很多 125.231.216.38 03/15 22:32
6F：推 popopin:AZO..先照著文獻的方式做看看吧 36.235.162.162 03/29 23:37