作者bb0303 (empty )
看板ChemEng
標題[問題] 氮化矽被氫氟酸蝕刻?
時間Tue Oct 29 21:22:31 2013
想問有關於氫氟酸蝕刻氮化矽的問題
小弟看得paper很多都寫說 HF對 氮化矽蝕刻速率很慢
但是為什麼小弟的氮化矽就被HF蝕刻假的
根本是用迅速的方式在蝕刻...
氮化矽也有200nm 以paper講的也要耐個1X分鐘吧
我不知道中間到底出了甚麼問題
還是 是小弟的認知錯誤?
麻煩有懂的人指導了 感謝
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◆ From: 140.117.165.40
1F：→ danny30715:www.pida.org.tw/optolink/optolink_pd 140.121.200.43 10/30 21:58
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3F：推 pttresident:以前用NDL爐管長的nitride真的吃很慢 1.162.89.199 10/30 23:49