作者bb0303 (empty )
看板ChemEng
标题[问题] 氮化矽被氢氟酸蚀刻?
时间Tue Oct 29 21:22:31 2013
想问有关於氢氟酸蚀刻氮化矽的问题
小弟看得paper很多都写说 HF对 氮化矽蚀刻速率很慢
但是为什麽小弟的氮化矽就被HF蚀刻假的
根本是用迅速的方式在蚀刻...
氮化矽也有200nm 以paper讲的也要耐个1X分钟吧
我不知道中间到底出了甚麽问题
还是 是小弟的认知错误?
麻烦有懂的人指导了 感谢
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1F：→ danny30715:www.pida.org.tw/optolink/optolink_pd 140.121.200.43 10/30 21:58
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3F：推 pttresident:以前用NDL炉管长的nitride真的吃很慢 1.162.89.199 10/30 23:49