作者grayalien01 (怕冷企鵝)
看板ChemEng
標題[材料] 關於XPS的峰值校正問題!!
時間Sun May 5 23:57:02 2013
如題
最近嘗試要把送樣的XPS試片數據fitting峰值
(樣品為氮化鋯、氮氧化鋯、氧化鋯等薄膜)
我去查了一下，好像fitting之前要做校正
我的試片有先做Ar預濺擊約5分鐘，所以應該是用Ar峰值做校正(242 eV)
比方說試片(一)
我去查了一下數據，Ar的高解析能譜圖，XPS管理員幫我簡易估了一下大概是242.612 eV
(所以我全部的數據的能峰值照理說都要減掉0.612 eV)
可是當做完校正後(扣完0.612後)，我發現試片(一)的圖要fitting時反而變得很詭異
所fitting出來的能峰值都跟文獻差的更遠，不校正好像還比較接近文獻值= =
(如果不要校正fitting出來的峰值位置還比較接近我搜尋的文獻)
我嘗試過把Ar本身的能譜圖拿出來fitting，想說管理員粗估可能會不准
結果一fitting出來是243.25，偏了1.25 eV更多= =|||
(Ar我只放一根peak去fitting，雖然是用Ar濺擊，但其實Ar的高解析能譜圖強度也不高)
(Ar的高解析能譜的圖很粗糙(rough)，可以看到很多鋸齒)
所以...到底是...
(1)現在我是不是乾脆都不要校正直接fitting好像還比較好...= =
(2)改用碳(C 284.6 eV)去校正，可是都預濺擊過了用C校正會準嗎??
(3)我校正方式錯了
(4)文獻一堆人根本也忘了校正就fitting了??
懇求各位高手幫忙了~QQ
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◆ From: 140.120.135.244
1F：推 zarya120:應該是用C來校正 122.146.81.207 05/06 05:38
2F：→ grayalien01:Z大那我應該用預濺擊前的C校正囉??140.120.135.244 05/06 10:00
3F：→ grayalien01:因為濺擊後C的高解能譜圖強度變得比Ar140.120.135.244 05/06 10:00
4F：→ grayalien01:的更弱140.120.135.244 05/06 10:01
5F：推 zarya120:你沒有打碳譜嗎？ 27.51.1.7 05/06 16:25
6F：→ zarya120:不是根據強弱來判斷用哪個做校正的 27.51.1.7 05/06 16:25
我在用Ar做預濺擊前皆有收集Ar跟C的高解析能譜
預濺擊前的話，C的能譜比Ar清楚很多(Ar譜幾乎是條鋸齒水平線)
濺擊後反過來，Ar譜比C譜清楚(但也很多鋸齒)，然後C譜幾乎是條鋸齒水平線
所以我是想說濺擊後Ar的能譜較明顯所以選用Ar
(不過校正後覺得不要校正所fitting的峰值位置跟文獻反而比較像= =)
我是還沒有嘗試過用C譜去校正，因為試片濺擊後C譜的訊號很弱不知道還能不能fitting
文獻上好像也是傾向如果有用Ar濺擊清掉表面汙染，校正就是用Ar譜
我如果校正的話，以Zr-N鍵結為例，文獻值約是178.8 eV
我去fitting整個峰值會偏移到176 eV左右(Zr-3d)
去計算含量推測，我目前推測可能是Zr的含量過高讓Zr-N峰值往低能量偏移
但應該不會偏到近2 eV那麼多吧= =???
實在好困擾~"~ 感謝Z大熱心
※ 編輯: grayalien01 來自: 140.120.135.244 (05/06 19:04)