※ 引述《cellowu (cellowu)》之銘言： : ※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之銘言： : : 這個部份我覺得怪怪的 : : 所謂一般wafer的氧化層是指native oxide(1) : : 還是指PECVD覆蓋上去的氧化層(2) : : 還是通氧氣在高溫之下 silicon wafer表面形成的氧化層呢?(3) : : 因為不論是市售的wafer或是實驗室自己生長切片後的wafer : : 在1或是3的狀況之下 都是呈現親水性 : : 經過HF清洗之後呈現疏水性 : : 但是在經過化學拋光之後 : : 1和3都是呈現疏水性 : : 也就是說經過拋光手續之後 : : 不論是natice oxide或是通氧生成的oxide : : 都是呈現疏水性質的 : (1)放在大氣中氧化的wafer : (2)PECVD 用TEOS 長的oxide : (3)市售的SiO2 : (2,3)都是水藍色的 : 這個在未吃過HF 前碰到水時都是疏水性,只是他的水珠稍為大顆一點 : 但一吃過HF會先馬上變親水性,再變疏水性 如果指的氧化層厚度都是100nm左右的話 2跟3應該都是未拋光的片子 不過2我沒試過未拋光座氧化層的親疏水性測試 但是1跟3我很確定浸泡HF之前是完全的親水性 因為整片wafer都覆蓋滿水 而不是水珠 至於化學拋光過後 3我有做過浸泡HF觀察變化 不過都是完全疏水性 剛剛很無聊跑去翻以前的片子做了一下測試 測試片是市售sc 4~8" 還有自己生長的mc 2~3" 都是p-type light doped 可不可以請C版友說明一下 這是您的經驗或是有文獻提到嗎 我想這或許是這個版最重要的地方 大家可以提供自己的經驗 供大家在實驗或是遇到問題的時候 能有一些參考的部分 -- "It's not about east or west, it's about niggaz and bitches, power and money, riderz and punks!" 這不關於東岸或是西岸,而是關於兄弟和女人,權力和金錢,領導者和卒仔....... by 2pac --

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