作者PDADDY (All Eyez On Me)
看板ChemEng
标题Re: [请问]氢氟酸与矽
时间Thu Nov 6 22:43:54 2008
※ 引述《cellowu (cellowu)》之铭言:
: ※ 引述《PDADDY (All Eyez On Me)》之铭言:
: : 这个部份我觉得怪怪的
: : 所谓一般wafer的氧化层是指native oxide(1)
: : 还是指PECVD覆盖上去的氧化层(2)
: : 还是通氧气在高温之下 silicon wafer表面形成的氧化层呢?(3)
: : 因为不论是市售的wafer或是实验室自己生长切片後的wafer
: : 在1或是3的状况之下 都是呈现亲水性
: : 经过HF清洗之後呈现疏水性
: : 但是在经过化学抛光之後
: : 1和3都是呈现疏水性
: : 也就是说经过抛光手续之後
: : 不论是natice oxide或是通氧生成的oxide
: : 都是呈现疏水性质的
: (1)放在大气中氧化的wafer
: (2)PECVD 用TEOS 长的oxide
: (3)市售的SiO2
: (2,3)都是水蓝色的
: 这个在未吃过HF 前碰到水时都是疏水性,只是他的水珠稍为大颗一点
: 但一吃过HF会先马上变亲水性,再变疏水性
如果指的氧化层厚度都是100nm左右的话
2跟3应该都是未抛光的片子
不过2我没试过未抛光座氧化层的亲疏水性测试
但是1跟3我很确定浸泡HF之前是完全的亲水性
因为整片wafer都覆盖满水 而不是水珠
至於化学抛光过後
3我有做过浸泡HF观察变化
不过都是完全疏水性
刚刚很无聊跑去翻以前的片子做了一下测试
测试片是市售sc 4~8" 还有自己生长的mc 2~3"
都是p-type light doped
可不可以请C版友说明一下
这是您的经验或是有文献提到吗
我想这或许是这个版最重要的地方
大家可以提供自己的经验
供大家在实验或是遇到问题的时候
能有一些参考的部分
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"It's not about east or west, it's about niggaz and bitches,
power and money, riderz and punks!"
这不关於东岸或是西岸,而是关於兄弟和女人,权力和金钱,领导者和卒仔.......
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