作者yako0411 (oklala)
看板Physics
标题[问题] 有关PECVD
时间Sun Mar 11 16:11:05 2018
想请问在PECVD沉积源材料的材料的差别上
使用TEOS 跟 SiH4形成SiO薄膜上有什麽优缺点吗?
感谢各位大大...
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1F：推 HDT: 感觉有点脱离物理版版旨，而且感觉是报告内容？ 03/16 06:33
2F：→ speedshuffle: PTT理工学院半导体制程实验室 03/17 23:11