作者Absolitude (别再睡了起床了爱丽)
看板Physics
标题[问题] 溅镀时靶材温度
时间Tue Aug 4 01:31:45 2015
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不知道要在哪个版问所以到这里问
一般直流磁控溅镀时，靶材会因为被离子轰击而升温，所以需要再靶材後方通冷却水冷却
，那一般而言有通冷却水的溅镀系统的靶材在溅镀时温度大约多少呢?
不是问基板的温度，查了半天都是基板温度的文章
谢谢~
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※ 编辑: Absolitude (140.114.235.65), 08/04/2015 01:37:01
1F：推 contaminate: 应该...量不到吧@@ 08/04 08:38
2F：推 goldcome: 冷却水我记得我们实验室是订24度靶材温度应该会高一点吧 08/04 09:03
谢谢^^
後来有查到一些表面温度的文章，好像几百到上千度都有，内部可能不太好找
※ 编辑: Absolitude (140.114.235.65), 08/04/2015 10:43:29
3F：→ yeahbo: 我有看过刚关掉power的靶材表面是红色的，至少四五百度 XD 08/04 23:16
4F：推 YJM1106: 低温电浆温度应该不低吧XD 08/04 23:37