作者csddd (csddd)
看板Physics
标题Re: 请问 水渍
时间Mon Aug 20 03:35:23 2007
※ 引述《ohdam (Boring !!!)》之铭言:
: 不清楚在这发问合不合适
: 只是这边似乎有蛮多有经验从事半导体方面之人士
: 想请问 像一边在处理晶圆等的材料很容易发现上面有水渍
: "似乎"在就算在无尘室里只要冲洗晶圆未以合适之吹乾方式就会残有水渍
: 我想问的是 那个水渍(应该说水纹)是甚麽呢!?
: 是脏东西 还是水分子残在晶圆表面而带不走呢
: 谢谢
不只是半导体厂,液晶面板厂也一样。
最有趣的是...世界前几名的大厂里头对这样子的水残水渍
的理解还是未定论。
所以,其实你这个问题不太容易回答出正确的答案,
就我个人的理解是 Fab 里头(不管是空气中或液体中)的某些有机物
留在表面所造成,因为这些碳链为主的有机物多半是斥水性的,
所以你仔细观察那些受到污染的地方,contact angle多半比正常的地方来得大
而且一种降低水残现象的发生的作法是在 n+ Si 表面以一点点 N2 + H2 的
plasma 去 treat,把它改成亲水性,反而不会有水残水渍。( plasma treatment
完之後用 optical 的方法去 scan 表面可以得知) (但是却会略为提升 n+
与 metal 之间的 contact resistance,不过由此来换得yield是划算的!)
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◆ From: 59.113.68.81
1F:推 sputtering:原po对兴晶圆制造越来越有概念了 原po是固态物的高手喔 08/20 10:29
2F:→ sputtering:我说是csddd兄啦 08/20 10:32