作者YuShaoChen (我转三圈)
看板NEMS
标题[问题] 双层光阻一次曝光的可能性
时间Sat Sep 17 18:28:56 2016
各位板上先进好:
小弟这里想请问一下
各位是否有关於使用两层光阻
却只用一次曝光
分次显影 的制程经验
小弟的制程步骤为
旋涂一层负光阻SU8-3010(17 um) -> 软烤 -> 旋涂EPG-510(正) -> 软烤
曝光 -> EPD48显影EPG -> 镀银 -> 丙酮去除EPD -> SU8显影液显影SU-8
主要是想在SU8突起的部分上有银,而基板上没有
目前卡在第一次显影 似乎显不乾净
猜测是光阻黏着力问题
或是有没有
别的更好的方式可以达到这样结果
请问板上有没有先进有这方面的经验或是建议?
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc), 来自: 114.26.238.117
※ 文章网址: https://webptt.com/cn.aspx?n=bbs/NEMS/M.1474108138.A.916.html
1F:推 SkyLark2001: 两层难度太大,你可试一层su8, 曝光, peb 後不要显 09/19 23:07
2F:推 SkyLark2001: 先拿去镀银後再显影 09/19 23:09
3F:→ YuShaoChen: 有试过这个方法,不过因为高度一样显影液无法从各个方 09/21 02:34
4F:→ YuShaoChen: 向进入 显不出来 09/21 02:34