作者kevinlee49 (杰)
看板NEMS
标题[问题] 在PDMS上制作金电极
时间Sun Jun 29 22:23:11 2014
如题
小弟想要把厚度50nm宽度2um的金电极放到PDMS基板上
过去尝试过的方法是用PMMA配合E beam lithography
在InP的基板上定义出Pattern
之後再用e-gun蒸镀50nm的金在InP上lift off
之後再灌上10:1的PDMS 150度烤乾
再放到HCl里面选择蚀刻InP
可是蚀刻完以後的结果都很悲惨
很多金电极都脱落
过去做1um以下的金结构用同样的制程方法都很成功,但是超过1um的pattern
就都很失败
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1F：推 jeffdon2:可以先将金电极用lift off作在Si wafer上，再将 06/29 22:28
2F：→ jeffdon2:(3-Mercaptopropyl)trimethoxysilane改质在金电极上 06/29 22:29
3F：→ jeffdon2:最後灌上PDMS，固化後掀起，金电极就直接在PDMS上了 06/29 22:30
4F：→ kevinlee49:3MPT这个方法我有试过,不过一样是用InP基板,结果失败 06/29 22:45
5F：→ kevinlee49:多问个问题...如果说在Si上用PMMA做金lift-off... 06/29 22:46
6F：→ kevinlee49:会不会一灌ACE就造成整个PATTERN全部飘掉? 06/29 22:46
7F：→ kevinlee49:3MPT改质方法是直接泡一小时然後用酒精rinse跟吹乾? 06/29 23:01
8F：推 jeffdon2:我记得这个方法的原文在 advanced materials上，并且有提 06/29 23:01
9F：→ jeffdon2:必须用显影液过度显影的方式去容掉光阻，不然pattern 06/29 23:03
10F：→ jeffdon2:确实会容易脱落 06/29 23:03
11F：→ jeffdon2:3MPT我是都用气相改质 06/29 23:04
12F：→ jeffdon2:用液相的话有可能因为溶液吹乾时的动作造成pattern剥离 06/29 23:06
13F：→ kevinlee49:所以你的意思是说我镀完金以後,不要直接泡ACE? 06/29 23:13
14F：→ kevinlee49:改用MIBK显影液吃掉光阻一些,此时再泡ACE或是去光阻剂? 06/29 23:14
15F：→ kevinlee49:气相改质是什麽仪器可以指点一下吗?感谢 06/29 23:16
16F：推 jeffdon2:就把3MPT滴在小容器内跟试片一起放入真空皿内抽真空 06/29 23:24
17F：→ jeffdon2:大约30分钟後，再把气阀转成维持真空的状态约12hr再取出 06/29 23:26
18F：→ kevinlee49:用纯的MPT还是有用其他有机液体稀释? 06/29 23:28
19F：→ jeffdon2:反正就是利用过度显影的方式去除光阻而不要用丙酮 06/29 23:28
20F：→ jeffdon2:纯的3MPT 06/29 23:29
21F：→ kevinlee49:可是过度显影到最後应该还是要用ACE拨除剩下的部分吧? 06/29 23:31
22F：→ kevinlee49:还是说真的是用显影液泡到全部消失? 06/29 23:32
23F：推 s75287:我好奇问一下 这些做法 是不是 PDMS变形一下 金电极就断了 07/02 00:04
24F：推 s75287:我学长有这样的问题.... 07/02 00:04
25F：→ kevinlee49:基本上我试过dry peel off 电极会有皱褶 但是有导通 07/15 23:49