作者Zoma (喔喔喔~~~)
看板NEMS
标题Re: [问题] 请问2um的黄光显影和曝光
时间Thu Apr 21 14:28:55 2011
我用的光阻跟你不一样...但或许可以提供经验给你参考
我光阻是使用LOR 5B+S1813...显影液是MF319
S1813至少可以作到0.7um...但undercut不够...不好lift off
因此需要LOR 5B来作undercut...而LOR undercut的速度和软烤温度有关
我们以前是作5um以上...但後来作2um的lift off也是遇到了这个问题
後来是利用调整软烤温度来达成这个目的...而调了温度後显影时间也会改变
不过曝光强度和时间倒是不需要改就是...虽然是不同光阻...
但我想道理应该差不多...我觉得可能是要调整光阻涂布和软烤的参数...
有时候data sheet都会提到...建议可以参考一下原厂data sheet...
此外...我们老师说...他之前用PMGI和S1813可以作到CD 0.5um...
不过我是做不到就是了~ㄎㄎ
※ 引述《qqappl (apple)》之铭言：
: 大家好，想请教一点显影和曝光的问题
: 我是用光阻EPG 510，显影液EPG 1000，机台的曝光强度2mj/cm^2*s，功率是262.5
: 接触式单面曝光机
: 我曝线宽10um的光罩时是曝光时间90秒，显影时间~10秒，
: 但是这在线宽2um下会过曝(?!看OM下) 但是不确定是不是显影时间过长的关系
: 除光罩不同，旋涂光阻和软烤的参数都一样
: 试过曝光时间不变，显影到5秒都还是一样....
: 但是如果曝光时间不够不是就一切免谈了吗?(无法用显影显久一点补足)
: 而且我的解析度要到2um....
: 先谢谢看完的版友:)
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◆ From: 140.112.49.136
※ 编辑: Zoma 来自: 140.112.49.136 (04/21 14:29)
1F：推 qqappl:谢谢回答:) 可以请问你们是调整软烤大约几度吗? 我是90度 04/21 20:34
2F：→ qqappl:软烤时间90秒，data sheet 在跟厂商要XD 04/21 20:35
3F：→ Zoma:参数因为是试出来的~就不方便说罗~~ 04/21 21:58
5F：→ Zoma:我稍微看了一下~你的曝光量是180mj...似乎大原厂不少喔~ 04/21 21:59
6F：→ Zoma:btw...有时候2um线宽加上undercut...比较差的显微镜 04/21 22:00
7F：→ Zoma:看起来好像合再一起~但其实可能没有~我们的就是这样~ 04/21 22:01
8F：→ Zoma:真的镀金属又lift off後才发现是显微镜太差~ 04/21 22:01