想藉此发问一下 我用的也是乔月的184 PDMS 翻模的最小规格是 400nm深 400nm宽 但是翻印不太成功 我硬模表面有上抗沾 A:B 是 10:1 ---> 是不是也需要稀释才可以饱模? (依照上面大哥的回答 似乎没提到?) 并静置了5小时以上 用80度考一小时半 虽然我觉得饱不饱跟考应该没关系了 ※ 引述《Jeffch (Jeff)》之铭言： : ※ 引述《secret320 (诚..)》之铭言： : : 想请问一下使用PDMS翻模(150nm宽100nm深光栅)翻印不成功 : : 使用乔越的PDMS及矽油 : : 制程是先在培养皿调配A剂:B剂:矽油=10:1:1(稀释PDMS) : : 并搅拌,将培养皿放入真空球中,利用机械pump抽至2*10-4torr : : 持续5mins(确认无气泡),破真空将PDMS後倒入母模 : : 再利用真空球抽真空约10mins(确认无气泡)拿去hotplate上加热 : : 80度1hr,翻印多次都没成功,有试过在母模上利用UV-OZONE : : 使之亲水,发现无法拔模,不知道大家是怎麽翻印200nm以下的结构呢 : : 谢谢回答的人 : 如果可以做silanization让表面成为hydrophobic将会很有帮助，hydrophobic可使： : 1. 母模不沾黏，容易脱模。 : 2. 更重要的是可让PDMS更容易浸润整个结构。 : 我曾经做过直径150nm深1.5um的母模，在silanization後甚至不需另加压力或抽真空， : 皆可顺利成型与脱模(成柱状)。 : 还有要注意使用fluorosilane based chemical时要注意： : 1. 先使用O2 plasma做表面处理使Si表面形成covalent bonding : 2. 保持chamber的乾燥，以免水气和silane反应 : 通silane的方式有很多种，我所使用的是挥发： : (TRIDECAFLUORO-1,1,2,2-TETRAHYDROOCTYL)TRICHLOROSILANE : 祝实验顺利 :) -- ███◢▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃ ██◤◢█◤◢█◤◢█◤◢█◤◢█◣ ◢█◤ ◢█ ██◣ ◢█◤ █◤◢█◤◢█◤◢█◤◢█◤ ◢◤◢█◤ ◢█◤ ◢█◤◢█◤◢ ◤◢██◣ ◢█◤◢█◤ ◢◤◢█◤ ◢███ █◤◢█◤◢█ ◢█◤◥█◣◢█◤◢█◤◢██◤◢████ ◢█◤ ◢█◤◢█◤◢██ ▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃▃◢███ --

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