原文標題：恐撤走VEU特權！美國搞跨日本晶片產業40年後 最近又盯上這一個親密盟國 原文連結：https://news.cnyes.com/news/id/6115361 發布時間：2025/8/18 記者署名：陳韋廷 原文內容： 1985 年美日簽署《廣場協議》後，日本半導體產業在嚴厲技術封鎖與金融制裁下逐漸喪 失全球領導地位。40 年後的今天，南韓半導體業正面臨相似的歷史轉折點。 近期，美國打算取消對韓「經驗證最終用戶」(VEU) 制度，要求南韓企業對每台美國設備 進口單獨申請許可，此舉標誌著雙方半導體合作從「綠色通道」退回嚴苛的逐案審批模式 。 這場變局背後折射出南韓半導體業的結構性困境。回溯歷史，南韓晶片產業的崛起與美日 博弈密不可分。 1982 年，日本東芝透過第三方向蘇聯出口精密工具機的「哥尼斯堡事件」，成為美日關 係裂痕擴大的導火線。當日本半導體企業憑藉改良 DRAM 技術搶佔全球 48% 市場份額時 ，美國一方面扶持南韓承接產業轉移，另一方面透過《美日半導體協議》強制日本晶片漲 價 100%，最終導致日本半導體市佔率在 1995 年跌破 20%。 在此期間，南韓過引進 IBM 技術、吸收華爾街資本，配合三星等財團的策略投入，迅速 在 DRAM 領域實現反超，1996 年量產 1GB 晶片時，全球市佔率已突破 30%。 但這種「技術換市場」的發展模式埋下深層隱憂。 當前南韓半導體產業呈現「三重依賴」特徵，生產設備 70% 依賴美國應用材料等三大供 應商，關鍵技術受制於 VEU 制度下的許可管控，市場方面雖佔據全球 14% 份額，但中國 連續多年保持其最大出口市場地位，去年記憶體晶片對中國市場依賴度仍達 42%。 美國政府近期動作暴露出戰略意圖的轉變，取消 VEU 制度意味著南韓企業每年必須額外 承擔數億美元合規成本。 根據艾司摩爾 (ASML) 最新報告，若管制持續升級，南韓半導體製造效率恐下降 15% 至 20%。這種壓力在 2023 年已有顯現，儘管美國給予三星、SK 海力士在中國工廠設備豁免 ，但禁止 EUV 光刻機使用的條款，迫使 SK 海力士採用「無錫加工 - 南韓光刻 - 返華 封裝」的迂迴方案，單晶圓運輸成本增加 40% 仍難避制裁風險。 對比全球半導體產業格局，南韓處境更具警示意義。荷蘭艾司摩爾壟斷 EUV 微影技術， 日本掌控光阻等關鍵材料，中國靠著稀土資源與完整產業鏈建構反制能力，而南韓既未能 建立技術護城河，又深陷地緣政治夾縫。 數據顯示，2024 年中韓雙邊貿易額 3280 億美元，佔南韓外貿總額 21%，但這種經貿關 係難以抵銷科技霸權的壓制。 當美國要求加入晶片聯盟對中圍堵時，首爾當局始終在市場佔有率與科技自主間艱難平衡 。 當前危機恰好揭示半導體產業的本質規律。荷蘭透過持續 40 年投入打造 ASML 壟斷地位 ，日本在材料領域建構全球七成市佔率，中國長江儲存 232 層 NAND 晶片實現儲存技術 突破，上海微電子 28 奈米光刻機即將量產，這些案例證明自主創新才是破局關鍵。 根據南韓半導體協會最新報告，若不能在 EUV、量子晶片等先進領域取得突破，南韓在全 球半導體版圖的市佔率恐重蹈日本覆轍，在十年內跌破 10% 警戒線。 持續四十年的半導體霸權更迭歷史表明，技術依附終將導致產業空洞化。從日本「失落三 十年」到南韓當前的 VEU 困局，跨國合作的蜜糖表象下始終湧動著技術霸權的暗流。 當全球晶片產業進入 3 奈米以下過程競賽階段，只有掌握核心技術的國家才能避免淪為 大國博弈的代價承擔者。 心得/評論： 可憐的日本，在1995年被美國出賣 可憐的南韓，在2025年被美國出賣 還好灣灣，加入的是更大的民主供應鏈，與我們完全沒有關係 在半導體的強力拉抬下，繼續噴！！ --

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