課程名稱 P102219 先進奈米等級微影製程 開課時數 9小時 上課費用 一般價1,500元 特約廠商、3人以上團報1,000元 峡查詢特約商明錄 峡立即加入特約廠商 五人以上團報500元 開課日期 102年8月31日~9月7日 週六 09:00~16:00 (敬備午餐，中午休息1小時) (第二次上課時間09:00~12:00) 開課地點 交通大學工程四館教室（教室地點課前將以行前通知另行公佈） 地址：新竹市大學路1001號 招生對象 半導體產業暨相關系統業者之在職人士或有相關技術需求者 結訓規定 核發「結訓證書」依據為出席率8成以上（依據簽到退表資料） 課程目標 此課程將由淺入深，介紹一般半導體製程中，微影的相關重要概念與參數，並 與元件的效能好壞作一連結。期使學員們，透過此課程，可以一窺先進奈米等級微影製程 的堂奧，並可將此知識應用於奈米等級的半導體晶片量產上。 課程大綱 1簡介 2 光阻性質 3 微米與次微米曝光系統 3.1 接觸式與鄰接式曝光系統 3.2 投影式與掃描投影式曝光系統 3.3 步進式與步進掃描式曝光系統 4 先進奈米曝光系統與技術 4.1 相位移光罩技術 4.2 浸潤式微影技術 4.3 雙重曝影製作技術 4.4 奈米轉印微影技術 4.5 奈米噴印成像技術 4.6 超紫外光(EUV)微影技術 4.7 多重電子束微影技術 5 微影模組關鍵因素與考量 5.1 微影模組中的景深 5.2 微影模組中的曝光能量 5.3 曝光尺寸偏差容忍度 6 微影模組技術的趨勢 授課師資 王木俊 教授 現職：明新科技大學 電子工程學系 教授 經歷：國立台北科技大學機電整合研究所兼任教授、國立台灣大學RFID中心成員、國立台 北科技大學奈米矽元件設計中心成員、明新科技大學/工學院 晶片設計中心主任、大葉大 學電機系 助理教授、聯華電子公司技術開發處 元件部經理、世界先進半導體公司 資深 元件工程師、工業技術研究院光電所 光電工程師 專長：製程整合、奈米矽元件設計、IC可靠性工程、RFID/ RF IC設計、光電薄膜電晶體 、生醫光纖感測 學歷：美國德州農工大學電機工程所博士 課程報名:http://submic.ee.nctu.edu.tw/curriculum/curriculum.php?Sn=397 --

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