作者hsnulight (台大東方翔)
看板NEMS
標題[問題] 乾蝕刻ITO
時間Fri Jun 27 16:16:00 2014
如題
最近希望利用RIE蝕刻ITO
不過查了一下大部分好像都會用到CH4來蝕刻
但這邊實驗室的RIE好像都沒有CH4這氣體
請問板上有人有用過其他氣體蝕刻嗎?
另外我的ITO厚度25nm
光阻則是1-2um 所以選擇比不是那麼高的氣體也可以
感謝!
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 140.112.17.20
※ 文章網址: http://webptt.com/m.aspx?n=bbs/NEMS/M.1403856963.A.0AF.html
1F:推 s75287:我用Chlorine...XD 06/27 19:17