作者ccczxzx (Pen)
看板NEMS
標題[問題] 蝕刻問題
時間Wed Feb 12 00:14:02 2014
各位板上的先進大家好
小弟近日在蝕刻上出了一點問題
想請問各位下一步會如何排除
狀況是這樣的
小弟使用負光阻塗佈在 ITO-glass 後
皆有使用軟/硬烤，顯影後檢查的狀況也不錯
pattern 間的 gap (50 um) 可以清楚的顯現
但在蝕刻 (H2O/HCl 1:1 85度 2 min) 這一步問題就出現了
ITO 還沒有蝕刻完我的光阻就開始脫落....
導致最後 pattern 間的 gap 沒有蝕刻完全
我在想可能問題出在光阻太薄無法抵抗蝕刻液
所以除了增加光阻厚度外，各位先進還會有什麼建議呢？
例如降低蝕刻速率抑或是增加硬烤或曝光的時間等
謝謝各位先進的幫忙與回答
小弟先在這邊謝過了
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◆ From: 180.176.221.168
1F：推 jeffdon2:之前我們是用廠商賣的ITO蝕刻液來蝕刻，溫度38度 02/12 08:44
2F：→ jeffdon2:用正光阻S1818 作2um阻擋層就很足夠了，150nm的ITO層 02/12 08:45
3F：→ jeffdon2:大約80秒至90秒就蝕刻的很完全了 02/12 08:46