作者cccWccc ()
看板NEMS
標題[問題] 鍍SiO2的方法
時間Sun Feb 24 00:55:52 2013
鍍SiO2方法有多多種 查了一下
有 蒸鍍 濺鍍 PECVD 等等
想請教一下 這幾種發法鍍出來的SiO2膜
個別的材料特性會是如何呢
1. 沉積時會有結晶構造(石英)或是某方向的對稱性嗎 還是沒有(純粹隨機 等向性材料)
2. 如果是等向性的話 薄膜的材料特性如密度 彈性常數等 是否會跟一般
查到的 SiO2 、 Fused Slica 的常數接近呢 因為聽說各個方法或技術好壞
鍍出的薄膜"緻密度"會不同 這似乎就暗示了薄膜的力學性質(密度 彈性)會不同
由於小弟要做些聲波元件 設計時就使用查到的 Slica 密度與彈性常數來計算
很怕鍍出來的 SiO2 材料特性跟他差很多 這樣做出來的東西就不能用啦
請教各位學長姐了！
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