作者zx12345 (阿胖)
看板NEMS
標題[問題] 晶圓清洗問題and塗佈問題
時間Fri Oct 5 11:42:51 2012
最近跟學長合作在製作元件 晶圓使用4"鈮酸鋰基板
不過最近在重複嘗試的過程中發現晶圓清洗不易
我們是使用ACE 然後IPA 然後DI WATER清洗 之後用氮氣槍吹乾然後用顯微鏡觀看
各用10min 60%power的超音波震洗機去做清洗
不過發現同一片晶圓就算直接來回做四次還是無法將晶圓清洗乾淨
有嘗試過加強power或是加強清洗時間 但是仍然會有汙點在晶圓上面
想問問還能不能加入什麼清洗的步驟才能使晶圓更加乾淨?
再麻煩大家給一點意見!! 謝謝
另外還有光阻塗佈的問題
塗佈後會發現有少許氣泡 搜尋一些資料大部分是說加熱或是放置一段時間則可以
不過效果似乎不是很好 顯微鏡下看得很清楚 想問問是否還有什麼方式可以解決
謝謝!!
光阻部分應該是nr7-1500py
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◆ From: 120.107.194.182
1F：推 ckris1945:試試氧電漿? 10/05 11:48
2F：→ zx12345:謝謝提供可是這邊沒有氧電漿 不知道還有沒有什麼其他方式 10/05 13:23
這邊實驗的機台功能較有限
希望能以一些比較基本的方式解決 再麻煩大家提供一點意見
※ 編輯: zx12345 來自: 27.245.249.254 (10/05 13:45)
3F：推 blueseas:RCA 10/05 16:09