作者hypercube (10932KM)
看板NEMS
標題[問題] mark 對位
時間Thu Apr 26 13:21:18 2012
大家好，想請教板上的各位先進~
若我在wafer上做了一道黃光後，接著在表層鍍上約5um的SiO2，
此時我想要再繼續做黃光，且需要和上一道所留下來的mark做對準
可是我想鍍上SiO2後原先的patten就應該找不到了吧，不知道要如何做對準!?
目前想到是在鍍SiO2前，做背對準將與正面相同的mark複製到背面，
之後再利用背面mark來做第二道的對準，不知道這方法是否可行~
或是有其他更好的方法可以解決，請教各位了，非常感謝~~
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.112.38.83
1F：推 SkyLark2001:我是覺得還是看的到，你可以先是一次看看。 04/26 13:23
2F：→ SkyLark2001:若真的看不到或很不清楚影響到對準，你說的方法可行 04/26 13:24
3F：→ SkyLark2001:你把圖案複製到背面後，可以用RIE吃一下約1 micron以 04/26 13:24
4F：→ SkyLark2001:上的深度，這樣就看得頗清楚了 04/26 13:24
5F：→ SkyLark2001:另外一個可行的方法是，前面改用厚光阻AZ去做，這樣就 04/26 13:25
6F：→ SkyLark2001:會很容易看到圖形了 04/26 13:25