作者spp100 (spp)
看板NEMS
標題Re: [問題] 線寬1um的玻璃光罩
時間Thu Apr 14 17:58:12 2011
取 4" glass 一片
鍍 Ti/Cr layer
上光阻
E-beam 曝光顯影
Cr-7 蝕刻 Ti/Cr layer
去光阻
收 工 ^o^
※ 引述《Zoma (喔喔喔~~~)》之銘言：
: 請問有誰知道哪裡有再作線寬1um甚至是0.8um的光罩呢?
: 學校單位包括交大~NDL~中央~中研院的規格都是2um的
: 不知道有沒有人委外作過線寬1um的光罩
: 我是想做在4吋玻璃上...但實際區域只會用到2cm*2cm
: 不知道這樣收費會多少? 謝謝囉
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 220.132.235.161
1F：推 aplasmaman:問題是曝光的光罩打哪來XD 04/16 11:00
2F：推 SkyLark2001:電子束微影啊 04/16 13:03
3F：→ spp100:樓上正解 E-beam 直寫 免mask ^^ 04/16 13:05
4F：推 SkyLark2001:我比較好奇電子束微影的能量夠強可顯厚1-2um的光阻嗎? 04/16 13:09
5F：→ SkyLark2001:畢竟那些光阻還要拿來當Cr7的檔罩的 04/16 13:10
6F：→ spp100: 1um PMMA 可寫0.2umlinewidth, pitch0.8um 04/16 13:51
7F：→ spp100:2009年發表於.. = = 哎呀我忘了在哪 04/16 13:51
8F：→ spp100:用20 KeV能量 0.x pA 電流 老了詳細的忘了 04/16 13:53
9F：推 SkyLark2001:感謝回答。 04/16 15:21
10F：推 Zoma:這成本這是太驚人了~而且四吋應該要好幾天吧~ 04/17 01:14
11F：推 SkyLark2001:只寫在2cmx2cm不需要太久，但是這種submicron的尺寸 04/17 15:02
12F：→ SkyLark2001:去做光罩就有困難了，蝕刻Cr/Ti不一定蝕刻很好，有了 04/17 15:03
13F：→ SkyLark2001:光罩再去做submicron的黃光又是另一層難題...乾脆直接 04/17 15:04
14F：→ SkyLark2001:每個SAMPLE都用電子束去寫吧 04/17 15:04
15F：→ leeneil:如果要這樣 何不直接用EBL就好了... 01/16 13:45