作者yangono (緩慢漂浮的感覺)
看板Master_D
標題Re: [請益] 請問KOH蝕刻後特性!
時間Thu Aug 27 14:25:18 2009
※ 引述《z2243390 (infinity)》之銘言：
: 大家好,用KOH蝕刻(100)矽wafer,由於(111)面蝕刻速度會較(100)慢
: 因此形成一個V GROOVE,而會在夾角地方有一個54.7度的角度~
: 因此可利用這角度計算深度或者光罩如何設計等等~
: 想請問一下,那個54.7度如何用數學式算出來~~
: 我沒什麼頭緒,我在想利用蝕刻速率比再加上三角函數可以算出來嗎?
: 但不知道從何著手!!
: 謝謝各位!
對正交系統而言 A=[h1k1l1] 與 B=[h2k2l2] 之夾角由兩向量之夾角dot求得
AdotB
cos0 = --------
|A||B|
A=[111] , B=[100]
[111][100]
cos54.7 = ---------------
|[111]||[100]|
得之
(我不大會用bbs, 上述0指角度theta, ||是絕對值)
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◆ From: 140.138.42.30
1F：推 z2243390:謝謝你~今天我把111平面畫出來後..才知道我之前想法錯了 08/28 03:33