作者chilton (chilton)
看板Chemistry
標題remove oxide on silicon...
時間Mon Nov 17 14:28:41 2008
實驗上遇到一個問題
就是我想把長在Si wafer上的Silicon oxide(>20 micrometer)去除
但 不要破壞到Silicon wafer上的構造
應該要用強鹼(KOH NaOH)還是要用HF (48% HF or 2% BOE solution)呢
或是有其他ETCHANT可以選擇?
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目前嚐試的結果
單純用HF solution吃很慢 又沒有效果
若用強鹼 又會把SI結構吃掉
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◆ From: 140.114.50.172
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