作者clemence (調來調去)
看板Chemistry
標題[實驗] 電鍍問題
時間Sun Mar 30 01:57:17 2008
目前實驗是把銅鍍到鉬基板上，想請問電解液(硫酸銅)濃度該如何選擇，
實驗室所有的硫酸銅電解液是供半導體銅製程使用，濃度(M)與常見學校
實驗室所使用的濃度(mM)差很多，想請問這是為什麼??
另外是否有書是關於沉積電位與濃度關係式的書？本身非化學背景，需要
較淺顯的，謝謝。
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