作者Ares645 (Ares.M)
看板ChemEng
標題Re: [材料] 關於XPS的峰值校正問題!!
時間Sun Sep 22 17:41:25 2013
※ 引述《grayalien01 (怕冷企鵝)》之銘言：
: 如題
: 最近嘗試要把送樣的XPS試片數據fitting峰值
: (樣品為氮化鋯、氮氧化鋯、氧化鋯等薄膜)
: 我去查了一下，好像fitting之前要做校正
: 我的試片有先做Ar預濺擊約5分鐘，所以應該是用Ar峰值做校正(242 eV)
: 比方說試片(一)
: 我去查了一下數據，Ar的高解析能譜圖，XPS管理員幫我簡易估了一下大概是242.612 eV
: (所以我全部的數據的能峰值照理說都要減掉0.612 eV)
: 可是當做完校正後(扣完0.612後)，我發現試片(一)的圖要fitting時反而變得很詭異
: 所fitting出來的能峰值都跟文獻差的更遠，不校正好像還比較接近文獻值= =
: (如果不要校正fitting出來的峰值位置還比較接近我搜尋的文獻)
: 我嘗試過把Ar本身的能譜圖拿出來fitting，想說管理員粗估可能會不准
: 結果一fitting出來是243.25，偏了1.25 eV更多= =|||
: (Ar我只放一根peak去fitting，雖然是用Ar濺擊，但其實Ar的高解析能譜圖強度也不高)
: (Ar的高解析能譜的圖很粗糙(rough)，可以看到很多鋸齒)
: 所以...到底是...
: (1)現在我是不是乾脆都不要校正直接fitting好像還比較好...= =
: (2)改用碳(C 284.6 eV)去校正，可是都預濺擊過了用C校正會準嗎??
: (3)我校正方式錯了
: (4)文獻一堆人根本也忘了校正就fitting了??
: 懇求各位高手幫忙了~QQ
Ar通常用來先對表面蝕刻
以降低外在環境之影響
大多以C做校正
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1F：推 iloveeating:Ar可以蝕刻?? 會很強的親蝕嗎 114.43.78.87 09/23 11:51