作者bhchad (新生代台勞)
看板ChemEng
標題[製程] 上完光阻顯影後放一天!
時間Thu Nov 8 23:19:13 2012
想問一下版友
若是做製程時
sample上完光阻
也曝光 顯影了
原本按理說應該是繼續下個步驟
如:電子蒸鍍金屬上去 再lift-off之類的
如果我sample顯影後
隔了一天在做蒸鍍
會有不良影響嗎??
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◆ From: 114.45.108.235
1F：推 Dewind:不會,但也不要放太久,有可能會不好lift-off 1.162.218.145 11/12 00:36