作者gamesame7711 (框框)
看板ChemEng
標題[製程] 製程壓力對反射功率之影響?
時間Mon Aug 1 18:29:43 2011
目前正在使用RIE，我是通氫氣進行乾蝕刻，但是反射功率過大，誤差值約30%
(我只有通20sccm的氫氣，壓力環境是100mTorr)
請問壓力環境、反應氣體對反射功率是否會有很大的影響?
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◆ From: 203.68.164.86
1F：→ IZO:調一下匹配, RF power是自動匹配的嗎 08/03 13:26
2F：→ gamesame7711:是 08/03 14:16
3F：→ IZO:自己實驗室的機台嗎? 沒辦法自己調就找機台負責人或工程師 08/03 14:26
4F：推 boster:通入Ar會比較好控制反射功率~ 08/10 22:50