作者topk (＊～瘋狂小傑～＊)
看板ChemEng
標題[問題] 黃光製程
時間Sun Jul 17 16:23:51 2011
想請教各位板大
首先我利用spin-coating的方式
在 Pt/Ti/SiO2/Si基板上鍍製 鋯鈦酸鉛膜( Pb(Zr,Ti)O3 )
並經過600度硬烤1小時
再利用熱阻絲蒸鍍約1000A的鋁
這便是我要作元件的壓電基板
接下來利用黃光製程
要在壓電膜上製作最小線寬為5um的指叉狀電極
我是利用AZ6112這支正光阻
但在曝光完去泡顯影液(AZ300MF)
泡大約30秒後
我的膜表面開始脫落
最終整片膜層都掉了
想請問各位板大有遇過類似的事情嗎?
是因為什麼原因造成的?
有什麼解決方式嗎?
先謝謝各位大大了!!!
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 120.126.12.114
1F：推 lgh0526:四種基板的膜都脫落嗎? 07/18 11:10
2F：→ topk:目前只能說確定鋁跟壓電膜脫落~其他層不確定~但可以知道的是 07/19 20:57
3F：→ topk:脫落後的基板表面是不導電的~所以推測Pt可能也掉了 07/19 20:58