※ 引述《zxuloandy (堯)》之銘言： : 如果用X光結晶繞射法觀察兩個不同尺度大小的樣本 : 比如說觀察奈米級(約50nm)particle的 Si powder 和觀察一般尺寸大小(幾mm)的 Si : powder : 這兩種情況所得到的繞射圖案有什麼差別啊，是不是用奈米級particle的 Si powder : 比較好?? : 呵胡塵滌考到這個，想問大家，還是說這在課本上找的到啊哈哈?? : -- :

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) : ◆ From: 123.204.194.9 : → eggplantjack:繞射峰比較寬? 11/01 13:05 : 推 bla:nanoparticle會出現particle形成的平面繞射峰 (我亂講的 = =) 11/01 19:56 : 推 afunism:nanoparticles由於結晶度較差導致繞射峰變寬 11/01 20:34 nanoparticle如果有anneal過....結晶性不一定比較差，要稍微注意一下， 沒有anneal過的粉末，除了結晶性的問題，還要考慮到strain造成的繞射鋒偏移， 如果是用磨出來的奈米粉末，這種問題會更明顯， 可參考Elements of XRD by B.D. Cullity 的 Strain separation部分， Williamson-Hall plot很清楚指出球磨產生的strain，與使用anneal移除strain的現象。 --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 114.36.13.183