作者Matsunaka3 (松井)
看板NEMS
標題[問題] 厚膜光阻（兩層）曝後烤會產生氣泡
時間Mon May 27 22:28:51 2024
各位大神好
小弟目前想用厚膜光阻作為Si深蝕刻的遮罩
目前使用的光阻有試過SPR220以及AZ4620
兩種光阻都試過只coat一層的話，深蝕刻沒辦法到達想要的深度
所以光阻目標厚度要15um以上
但如果coat上兩層的話，曝後烤都會出現氣泡
就算曝光前放在塑膠真空皿抽了兩天，曝光後硬烤還是會出現氣泡
我爬文發現以前有幾位大神有試過兩層厚膜的
想請問大家先前有如果遇到兩層光阻的case會怎麼處理？
先感謝各位相助了Orz
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1F：推 huangsw: 有沒有試過SU8? 05/29 21:35
2F：推 hafat: AZ12XT可以輕易達到厚膜需求 06/02 09:33
3F：推 sunchloveann: 呵呵 我通常會問你有沒有降轉速去轉AZ4620 06/11 00:01
4F：推 sunchloveann: 1000轉 大概有16um 06/11 00:01
5F：推 sunchloveann: 750rpm也有 06/11 00:01
6F：推 a12121415: 硬烤溫度60度，過個半天在用90度烤一天，就可以當硬擋 05/05 03:04
7F：→ a12121415: 層 05/05 03:04