奈米压印(nano-imprint)技术曾经被认为是开发下一代微影技术的关键。 多年来，奈米压印微影技术已取得了长足的进步，但在很大程度上，这种技术仍停留在研 发阶段。尽管奈米压印并未能如许多人所愿地冲击半导体晶圆厂的主流生产制程，但这种 技术却已延迟导入其最大的潜在市场──硬碟(HDD)。 目前硬碟制造商使用溅镀技术在硬碟上实现磁性介质，但这些产品很快地就会遭遇1TB容 量的极限。大约在今年底左右，硬碟制造商们将使用一种名为‘位元规则介质’ (bit-patterned media)的下一代技术来生产硬碟；这种技术据称可将传统的储存容量扩 展到10TB。 每个磁性位元均以实体方式组合到采用位元规则介质的硬碟上。为了实现这种技术，硬碟 制造商们正从溅镀转移至奈米压印微影技术制程，以实现重大改变与转型。这并意味着硬 碟制造商们首次将微影技术用於生产。 但根据报导，硬碟制造商们已经延迟了上述的转型，这是由於在样品生产中发现了一些无 法预料的问题与其它种种因素所致。转型至采用位元规则介质和奈米压印这两种技术“可 能会比我们所想像的更晚几年。”硬碟制造商日立环球储存科技(Hitachi GST)公司圣荷 西研究中心规则媒介经理Thomas Albrecht表示。 在SPIE先进微影会议上发表演讲後，Albrecht接受了《EETimes》的采访。他认为，位元 规则介质进入量产或主流生产阶段大约还需要4到5年的时间。 不同的硬碟制造商们对於位元规则介质的投产时程各有计划，因而更加增添奈米压印供应 商的焦虑与不安，因为这些供应商们都指望这种技术能成为市场成长的动力。包括 Nanonex、Molecular Imprints(MII)、Obducat等奈米压印供应商们已经开始出货工具给 硬碟公司，并焦急地等待这种技术进入实质性生产阶段。 一些人认为，生产先进硬碟的制程从溅镀转型至奈米压印的时间将长达5年，也有人认为 这一转型时间将会更早，大约在2011或2012年。 “硬碟制造商们所经历的奈米压印制程延迟是全面性的”，普林斯顿大学教授Stephen Chou指出。Stephen Chou同时也是奈米压印先驱Nanonex公司创办人兼主席。 “硬碟制造商们在位元规则介质方面投入了大量资金”，Chou表示，“但目前他们对於位 元规则介质和奈米压印微影技术何时可投产还没有明确的时间表。” MII公司执行长Mark Melliar-Smith认为，奈米压印技术可望在2014或2015年以前由硬碟 公司投入生产。现在，奈米压印正“从开发转向试产阶段。”Melliar-Smith在SPIE大会 上表示。 硬碟制造商“已经购买了一些奈米压印工具”，市场研究公司VLSI Technology执行长 G.Dan Hutcheson指出，但“他们尚未开始投产。” 这并不表示奈米压印技术遭遇到麻烦了。事实上，奈米压印“正不断取得进步，并已经从 一个科学研究计划变成一种实用的技术，”Hutcheson表示。 这种技术仍处於发展初期，业界对於IC、硬碟、LED、光学和太阳能市场中所使用的工具 均非常感兴趣。有趣的是，奈米压印技术可制造出特徵尺寸在10nm以下的元件，而且成本 只有传统光学微影制程的一小部份。 奈米压印技术并未使用昂贵的光学元件，而是采用简单的压印或热铸制程，在元件上产生 特徵图案。这种制程先从模板或铸模着手，然後再由电子束工具根据1:1比例的缩减机制 在模板上选择特徵图案。使用奈米压印工具──就像一台巨大的压印机──模板被压向加 热的单层基板，最终形成微型的特徵尺寸。 但奈米压印的低吞吐量与重量等固有缺点，使其还无法成为主流制程。 相较於与光学微影技术，奈米压印市场显得非常小，只有大约4,000万至6,000万左右，但 供应商宣称，硬碟业务将使奈米压印市场提升到10亿美元左右──前提是如果硬碟制造商 采用这种技术的话。 http://www.eettaiwan.com/ART_8800603701_480202_NT_1ba255f7.HTM --

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