※ 引述《s0831720 (闪光去死)》之铭言： : 日本熊本县知事去访台积电不知道大家怎麽看？ : 相较美国，日本真的很用力再推半导体 : 我自己是看好日本半导体 前阵子有申购00954 : 我觉得这档有利多消息 : 美中竞争，日本发展半导体战略 : 再来台积电加开新厂也是讯号 : 趁这波在半导体逢低买进感觉也是不错的选择 : 最近刚好日股回档 : 老实讲8月股灾发生也不是全然不好吧 : 感觉下跌这一波也是除掉一些泡沫 : 现在布局是好时机 : 申购的时候刚好回档 但最近又慢慢回来 : 在考虑8/20挂牌要再加码 : 不知道大家怎麽看？ 最近在研究日本半导体，发表一点自己的看法，来给大家批判。 我认为台积电在熊本的JASM第三厂，是很关键的一厂。 印象中消息最早是由Bloomberg在去年(2023)报导的台积电考虑在熊本生产3奈米的晶片 [5]。这件事情确由美媒来披露，而且是先进制程的3奈米，确实耐人寻味。 为什麽呢？ 因为台积电当初到海外生产(美国，日本，德国)是为了降低地缘政治的风险，为当地的客 户服务。但台积电在日本没有3奈米的客户。而且熊本三厂由Bloomberg来释出消息，让人 不禁联想可能是美国厂的进度延後，美国政府因而启用『友岸外包』的缘故。如果真如报 导内说的那样，那麽JASM将不只为日本在地的客户生产晶片。连美国3奈米客户(e.g., 苹 果，辉达，高通，超微)的晶片，也可能会由JASM来生产。 再来，既然是3奈米的先进制程，那麽先进封装CoWoS极有可能也会引进日本。因为JASM在 日本生产完後，再运回台湾封装，不符合成本与效率。再加上之前确实有新闻说台积电考 虑把CoWoS引进日本 [4]。所以先进封装CoWoS引进日本可能也只是时间上的问题。(也许 JASM 的第4厂会是先进封装厂？) 所以说在熊本的JASM第三厂，是很关键的一厂。 台积电海外产能的占比，希望在2028年能达到达到2成。[3] 安全与新兴技术中心(CSET) 的一份报告指出，在1990年至2020年期间全球共建设了635座 晶圆厂，从建设到投产的平均时间为682天。其中，日本最快为584天，韩国紧随其後为 620天。欧洲和中东地区的天数大致持平，为690天。美国倒数为736天，远慢於全球平均 速度 [2] 在美国厂进度落後，成本过高的情况下，对台积电来说，海外的产能大部分到JASM来生产 ，会是一个比较好的选择。所以台积电要在2028年达到这个海外产能的占比2成的目标， 在日本就绝对不只目前已经确定的JASM第一厂与第二厂。 如果我们再配合其他的新闻来看，经济部长规划赴九州设半导体工业区， [8] 在熊本打 造日本竹科，应该是现在进行式，所以熊本的JASM第三厂有很大的机率会建成。我认为， 比较需要关注的是之後对外公布的细节，是否像之前报导揭露的一样是3nm，以及是否会 正式公布先进封装CoWoS引进。 对日本半导体上游的影响 台积电熊本一厂目前在地采购仅25％，因此魏哲家在致词时说，熊本一厂预计於2030年， 达到在地采购率6成之上，共同振兴日本半导体。 [1] 这对日系的设备与材料来说是好消息，日本的设备与材料本来就是在世界上有一席之地。 https://i.imgur.com/fm4BZtg.jpeg JASM在地采购率一但提高，很机会带动日本厂商的进一步升级；但这不是一蹴可几，还需 要2-3年才看得出来。 因为台积电过去确实有带动上游设备厂商提升技术地位的案例；比方说，现在的 Lam Research 是全球刻蚀机台的龙头。但在 2000 年前，应用材料才是刻蚀机台的龙头。 当 整个产业进入 12 寸晶圆後，应用材料摔了大跤。 当时最早开始建设 12 寸晶圆厂的业 者是英特尔、英飞淩、三星等 IDM 大厂，台积电在当时的规模还不算大，且对於 8 寸 转 12 寸晶圆厂的步伐较为保守。 每一次的技术、规格等历史转折点，都反映着权力板 块的移转。 应用材料在全球 8 寸转 12 寸晶圆的过程中，刻蚀机台的势力意外掉队，龙 头地位拱手让给 Lam Research。後来，应用材料又花了很多年时间，才逐渐抢回一些刻 蚀机台的市占率。 因为台积电从 8 寸转 12 寸时虽然不是领军者，但台积电看中这是一个世代势力的转换 ，因此非常积极盖 12 寸厂，但当时的应用材料并没有非常积极配合台积电。最後，台积 电在全球半导体市场崛起，也把 Lam Research 的刻蚀机台势力带了上来。 [7] 比方说现在的佳能，目前卖的曝光机都是落後於市场两个世代的KrF和iline的技术路线： https://i.imgur.com/k0GzAqN.png 佳能的ArF乾式曝光机虽然一度实现了産品化但未能捕捉客户需求而退出，目前也开始考 虑重新涉足。[6] 这表示佳能其实是有技术可以做到ArF乾式曝光机，但过去因不具备市 场竞争力，转而退守KrF和iline技术路线的曝光机。也许是最近来的订单比较多，经费比 较充足，让他们更有底气可以重新开始ArF乾式光刻机的生产线。 当然，这不仅是佳能，我们确实可以期待，将来很多日本的设备与材料厂商会进一步地升 级。 Reference: [1] https://reurl.cc/Llmepx [2] https://wallstreetcn.com/articles/3708689 [3] https://money.udn.com/money/story/5612/8069560 [4] https://udn.com/news/story/7240/7838079 [5] https://reurl.cc/ZVA8rV [6] https://zh.cn.nikkei.com/columnviewpoint/column/55585-2024-05-17-05-00-21.html [7] http://www.casmita.com/news/202104/08/3950.html [8] https://www.cna.com.tw/news/afe/202405300343.aspx --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc), 来自: 113.39.122.17 (日本) ※ 文章网址: https://webptt.com/cn.aspx?n=bbs/Stock/M.1723907640.A.9C2.html ※ 编辑: rosemary0401 (113.39.122.17 日本), 08/17/2024 23:14:37 个人认为，日本厂商挑战ASML的EUV，2-3年之内应该不太可能成功。 但日本厂商挑战ASML的DUV或是旧型UV，是现在进行式 我不是工读生，是研究生 你说得没错，但是我说得也没错。XD ArF有乾式和湿式(或称浸润式)两种， 湿式的又称ArFi。 佳能确实没有做过ArFi，文章内说的是，佳能的ArF乾式曝光机虽然一度实现了産品化 但未能捕捉客户需求而退出。 我认为NIL挑战EUV可能不是很精确，因为NIL先天不太适合复杂的结构 比较适合简单重复性高的结构，比方说NAND。 所以只能取代少部分EUV的工作，而无法取代EUV的全部 我也这麽觉得 你的消息真灵通 ※ 编辑: rosemary0401 (113.39.122.17 日本), 08/18/2024 22:33:22