作者GoGoRoll (WetMaster)
看板Refresh
标题[北区] 2017 CMP 基础与应用培训课程
时间Fri Apr 21 21:51:38 2017
课程: 2017 CMP 基础与应用培训课程
时间: 6/1-2
地点: 交通大学光复校区
课程内容:
半导体制程综论 (Introduction to Semiconductor Manufacturing and IC
Fabrication)
CMP制程及设备简介 (CMP Basics)
CMP 抛光液 (CMP Slurry)
抛光垫基础课程 (Introduction of CMP Pads)
抛光垫修整器 (Pad Dresser)
CMP 制程模型 (Process Model of CMP)
CMP 量测技术 (CMP Metrology)
NDL 参访
希望可以找到一起参加的朋友
到时课程有任何问题可以互相讨论 ~
http://www.cmpug.org.tw/news_contant.php?id_c2=97
欢迎自行转载
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