课程名称 P102219 先进奈米等级微影制程 开课时数 9小时 上课费用 一般价1,500元 特约厂商、3人以上团报1,000元 峡查询特约商明录 峡立即加入特约厂商 五人以上团报500元 开课日期 102年8月31日~9月7日 周六 09:00~16:00 (敬备午餐，中午休息1小时) (第二次上课时间09:00~12:00) 开课地点 交通大学工程四馆教室（教室地点课前将以行前通知另行公布） 地址：新竹市大学路1001号 招生对象 半导体产业暨相关系统业者之在职人士或有相关技术需求者 结训规定 核发「结训证书」依据为出席率8成以上（依据签到退表资料） 课程目标 此课程将由浅入深，介绍一般半导体制程中，微影的相关重要概念与参数，并 与元件的效能好坏作一连结。期使学员们，透过此课程，可以一窥先进奈米等级微影制程 的堂奥，并可将此知识应用於奈米等级的半导体晶片量产上。 课程大纲 1简介 2 光阻性质 3 微米与次微米曝光系统 3.1 接触式与邻接式曝光系统 3.2 投影式与扫描投影式曝光系统 3.3 步进式与步进扫描式曝光系统 4 先进奈米曝光系统与技术 4.1 相位移光罩技术 4.2 浸润式微影技术 4.3 双重曝影制作技术 4.4 奈米转印微影技术 4.5 奈米喷印成像技术 4.6 超紫外光(EUV)微影技术 4.7 多重电子束微影技术 5 微影模组关键因素与考量 5.1 微影模组中的景深 5.2 微影模组中的曝光能量 5.3 曝光尺寸偏差容忍度 6 微影模组技术的趋势 授课师资 王木俊 教授 现职：明新科技大学 电子工程学系 教授 经历：国立台北科技大学机电整合研究所兼任教授、国立台湾大学RFID中心成员、国立台 北科技大学奈米矽元件设计中心成员、明新科技大学/工学院 晶片设计中心主任、大叶大 学电机系 助理教授、联华电子公司技术开发处 元件部经理、世界先进半导体公司 资深 元件工程师、工业技术研究院光电所 光电工程师 专长：制程整合、奈米矽元件设计、IC可靠性工程、RFID/ RF IC设计、光电薄膜电晶体 、生医光纤感测 学历：美国德州农工大学电机工程所博士 课程网址 http://submic.ee.nctu.edu.tw/curriculum/curriculum.php?Sn=397 --

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