作者zxcvxx (zxcvxx)
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标题[新闻] 晶圆薄化专利於二审续判无效,昇阳半导体
时间Thu Jun 17 13:58:31 2021
晶圆薄化专利於二审续判无效,昇阳半导体与宜特科技转战营业秘密侵害
https://bit.ly/2U3Eosa
针对昇阳国际半导体公司(下称昇阳)控告宜特科技(下称宜特)侵害昇阳拥有的中华民
国I588880号「晶圆薄化制程」发明专利权一案,智慧财产法院曾於民国109年6月23日作
出一审判决,判决该I588880号专利无效;昇阳对该判决不服而提起上诉,并续行主张宜
特侵害该 '880号专利权。
智慧财产法院於今年(2021) 6 月 4 日作出二审判决,依旧认为昇阳专利所拥有的该
'880号专利权,属於通常知识之轻易组合,故不具备进步性,因此判决再次认定该 '880
号「晶圆薄化制程」专利无效。
惟昇阳与宜特之间的智财权攻防,除了专利侵害诉讼之外,自今年2月起,亦展开营业秘
密侵害相关诉讼。宜特及其两位员工因涉嫌侵害昇阳半导体营业秘密,於今年2月遭新竹
地检署起诉;昇阳稍後於今年3月向新竹地方法院提起刑事附带民事诉讼,请求宜特及相
关人等赔偿。因宜特涉案的两位员工曾是世界先进员工,昇阳半导体一并对世界先进提起
刑事附带民事诉讼,请求连带赔偿损失及所失利益;如此原本是晶圆封装厂间,针对晶圆
薄化技术相关智财权攻防战火,进一步扩大到上游晶圆代工厂牵扯其中。
中华民国I588880晶圆薄化制程发明技术内容及家族专利范围
中华民国发明专利TW- I588880,专利名称:晶圆薄化制程,申请日为2016年6月28日,并
未引用其他更早的优先权日,更正後请求项1及2,表格整理如下。说明书图示2~3分别对
第1图晶圆薄化制程之步骤1、2进一步举例说明详细制程步骤。
如表二所示,比较得知,推论昇阳诉讼过程中企图维护该 '880专利有效性策略,系把该
中华民国 '880专利更正後请求项调整修改为与对应美国专利US10026603B2或欧盟专利
EP3264449B1专利范围第1项一致。昇阳可能评估既然如此专利范围能通过美国与欧洲专利
局审查而核准为有效专利范围,应该有合理基础应该也能通过智慧财产法院的有效性判断
。
880号「晶圆薄化制程」专利二审续判无效
虽然昇阳把该中华民国 '880专利更正後请求项1修改为与对应美国 '603专利或欧盟
'449 专利范围第1项实质一致,但是当面对宜特於诉讼过程中所引用的多项前案证据攻击
下,更正後请求项1并未获得技审官认同具有进步性,最後仍被判定为无效。智慧财产法
院判定更正後请求项1、2无效所依据的五种前案证据组合如表三所示。表四仅以表格方式
说明智慧财产法院所依据的(一)乙证14及24组合,与 (二)乙证14、24及25组合之无效比
对。
具体相关先前技术证据专利号资讯为:
乙证14为美国第2008/0045015号「蚀刻晶圆之方法」专利案
乙证23为美国第2002/0106518号「氟化树脂涂覆之石英玻璃夹具及其制法」
乙证24为WO 2005/036629号「晶圆粗化表面的制程」专利案
乙证25为美国第5899731号「半导体晶圆之制法」专利案
乙证26为美国第4294651号「表面处理半导体基板之方法」专利案
乙证27为美国第6169038号「粗化蚀刻半导体表面之方法」专利案
结语
(1) 扮演攻击方的昇阳半导体,主动发起第二波出击以展现其强盛企图心,推论当智
慧财产法院於去年6月作出不利昇阳的一审判决後,昇阳内部可能就设定期限,开始积极
为今年2月的营业秘密诉讼积极进行准备。倘若此次营业秘密诉讼未能获致昇阳内部设定
的预期目标成果,不知道是否会继续将战场转进到美国或欧洲专利诉讼?
(2) 智慧财产法院判决附图中,列出若干原告昇阳半导体当初委托外部事务所准备的
专利侵权比对分析报告(甲证7)中主张侵权的宜特制程相关影片之截图。从影片格式来
看,推论应该是宜特科技公司上传到Youtube的「宜特科技解你的痛系列-02揭开晶圆薄化
太鼓制程神秘面纱」影片,遭到原告昇阳收集截图作为侵害比对的依据。如此把公司内部
晶圆薄化制程相关影片公开流传於网路上,虽有助於向客户行销说明公司先进制程技术水
准,但另一方面也可能大幅降低专利权人收集侵权证据的困难度,相关影片揭露内容尺度
掌握应谨慎。
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