亿光中国547号专利被无效 日亚化胜诉 新闻来源：https://bit.ly/316GUMw 本文： 日亚化(Nichia)新闻稿表示，中国国家知识产权局2019年6月21日，作成审查决定，认同 日亚之主张，宣告亿光中国所拥有专利申请号：ZL200710161547.X）覆晶晶片技术之547 号专利全部无效。 之前，日亚针对亿光电子（中国）有限公司关於覆晶晶片技术547号专利提出专利无效请 求，终获判该专利全部无效。中国国家知识产权局认为： 决定要点：如果一项权利要求请求保护的技术方案与最接近的现有技术存在多个区别技术 特徵，但是该些区别技术特徵分别被其他多篇对比文件公开，且该些区别技术特徵在各自 被公开的对比文件中所解决的技术问题与其在本专利中所解决的技术问题相同，即其他对 比文件给出了将该些区别技术特徵应用到最接近的现有技术中的技术启示，则该权利要求 要求保护的技术方案相对於该些对比文件的结合不具备突出的实质性特点和显着的进步，不具备创造性。 中国国家知识产权局作成上述决定後，於是，亿光中国就547号专利对日亚及日亚客户向 深圳市中级人民法院所提起之专利侵害诉讼，因而亿光中国决定撤回诉讼而告终结。 --

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