南韩KTC撤销对Apple-KAIST专利纠纷及不公平贸易调查 http://bit.ly/2ZHwmU9 南韩贸易监管委员会（The Korea Trade Commission，KTC）於2019年4月25日表示，已决 定结束调查KAIST与苹果公司之间的FinFET半导体专利纠纷，基於他们双方已达成了和解 协议，虽没有透露具体细节，但可推测应不低於4亿美金。 该调查起始於2017年12月，当时南韩先进科技研究院（KAIST）旗下智慧财产权管理部门 KIP向KTC递交了不公平贸易调查的申请，案件後扩大为专利无效诉讼（patent invalidation trial）和民事诉讼。当时，KIP宣称台湾台积电(TSMC)代工生产苹果应用 处理器（AP）侵犯了KAIST的FinFET处理技术专利，而要求调查涉及iPhone 6S、iPhone 7 、iPhone 8及iPhone X系列，以及iPad和iPad Pro平板电脑。苹果应用处理器采用三维结 构的FinFET工艺技术。於是，KTC透过审查各方提交的文件和持有的技术简报来调查专利 的有效性和侵权问题。2019年3月29日，KIP向KTC委员会提交了一份申请，要求撤回其调 查请求，因已与Apple达成和解协议为理由。 当时作为回击KIP，Apple南韩公司也向韩国智慧财产审判庭（IPT）提出申请，主张KAIST 的FinFET专利无效；而台积电也在南韩和台湾法院对KAIST提起民事诉讼。 本案系争专利US6885055 (Double-gate FinFET device and fabricating method thereof)，有关於鳍式场效电晶体（FinFET）制程技术。原专利权人Lee Jong-Ho是首尔 国立大学电子工程系教授，後於2016.07.20将专利权转移给KAIST IP CO., LTD，後又於 2016.08.10转给旗下美国子公司KAIST IP US LLC，以便在美国法院主张专利权进行诉讼 。 KAIST对於FinFET专利技术"一石两鸟"诉讼策略 首先，2016年11月29日KAIST选在美国启动专利战，去美国德州东区法院指控三星、 Global Foundries、高通等三家被告专利侵权案，并於2018年6月15日取得美国法院背书 FinFET专利有效，美国德州东区法院陪审团评决侵权成立，被告公司侵犯其中一件专利 US6,885,055，并对三星需判赔 4 亿美元。而另两家被告Global Foundries、高通，虽侵 权却被判0元赔偿金，很可能与原告KAIST达成某种协议。同时，於2017年KAIST在南韩KTC 对苹果提出不公平贸易调查，後又延伸出专利侵权纠纷，而TSMC因代工生产苹果的处理器 而被牵连其中。 FinFET专利技术将是半导体厂必争之地，而KAIST具南韩官方色彩的机关。而南韩KAIST藉 从终端产品业者及晶片设计业者之处下手，以打击南韩半导体的主要敌人TSMC，虽然 KAIST也打三星，然而以KAIST与三星的长期研发合作关系，三星被判罚4 亿美元给KAIST 也可视为三星付给KAIST的研发经费罢了。这是KAIST初步取得专利授权金，後续可能从半 导体制程、晶片、封装到终端应用等厂商，进行权利金追讨动作；或是KAIST将该专利转 移给三星电子，让三星有能力以专利换订单。 --

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