台积电研发团队获奈米产业科技菁英奖 台湾积体电路制造公司研发团队今天以领先的浸润式曝影(immersionlithography)技术， 成功产出90奈米晶片及在65奈米与更先进制程技术领域开发的成就，荣获经济部工业局第 一届「奈米产业科技菁英奖」。 台积电表示，此一奖项是政府为提昇台湾奈米技术创新及推动奈米技术产业化的落实而举 办，评审团一致认为台积电公司在电子奈米技术的研究发展及成果，对国家半导体产业及 经济均有重大贡献，足以作为产业典范。 此次在经济部工业局公布的得奖事蹟中指出，台积电公司突破全球半导体业的技术瓶颈， 创新使用以水为介质的193奈米波长曝光机 (浸润式曝影技术)，成功产出90奈米晶片，而 此一技术不久後即可迈入量产阶段。 台积电更进一步确认可延续193奈米波长曝光机的影像解析能力至32奈米制程，在延伸摩 尔定律上，具有指标性的意义，为全球半导体业的重要成就。 台积公司也使用65奈米制程技术，成功试产出晶片并致力於投入更先进之奈米制程技术的 开发，除了对台湾电子奈米技术发展有杰出贡献，并更进一步强化台湾在世界电子产业的 国际地位。 http://tw.news.yahoo.com/050921/43/2bs2q.html --

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