作者fafeiwen (发废文)
看板NTU-Exam
标题[试题] 110-2 吴肇欣 积体电路工程 期中考
时间Mon Apr 18 13:43:14 2022
课程名称︰积体电路工程
课程性质︰电子所NE组必修
课程教师︰吴肇欣教授
开课学院：电资学院
开课系所︰电子所
考试日期（年月日）︰2022/04/18
考试时限（分钟）：120
试题 :
A、简答（80%）
1. 绘出LOCOS制程
2. 什麽是STI？跟LOCOS比较有什麽优点？
3. 解释什麽是edge dislocation / screw dislocation
4. 分别介绍一种destructive及non-destructive测量oxide thickness的方法
5. 什麽是latent image？必要的话可以画图表达
6. 什麽是bleaching effect？
7. How does a phase-shift mask work to sharpen images?
8. Jack Kilby and Robert Noyce both tried to make an integrated circuit. Whose w?ork is
more close to today’s IC process and why?
9. 从lithography的观点，过去10年有什麽技术，让半导体发展可以跟上Moore’s Law？
（写出两种feasible way）
10. 写出clean room class 100的定义
11. FZ法跟CZ法分别有什麽优点
12. 写出 Gettering 的步骤
13. 为什麽要用四点探针法？请详细解释
14. 解释freeze out / extrinsic / intrinsic region的成因
15. 由数据图判断ABC三条curve的segregation coefficient大小
16. 画出高、低频的CV曲线
Ｂ、问答（20%）
1. 使用saturated H2O + O2 能否替代RCA中使用H2O2去除金属离子（Au, Fe, Cu）的步骤？为什麽？
（题目给予SiO2生成、H2O分解、Au、Fe、Cu离子化的方程式及Standard Oxidation Potential）
2. 画出PNP BJT的process flow
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