作者Matsunaka3 (松井)
看板NEMS
标题[问题] 厚膜光阻（两层）曝後烤会产生气泡
时间Mon May 27 22:28:51 2024
各位大神好
小弟目前想用厚膜光阻作为Si深蚀刻的遮罩
目前使用的光阻有试过SPR220以及AZ4620
两种光阻都试过只coat一层的话，深蚀刻没办法到达想要的深度
所以光阻目标厚度要15um以上
但如果coat上两层的话，曝後烤都会出现气泡
就算曝光前放在塑胶真空皿抽了两天，曝光後硬烤还是会出现气泡
我爬文发现以前有几位大神有试过两层厚膜的
想请问大家先前有如果遇到两层光阻的case会怎麽处理？
先感谢各位相助了Orz
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc), 来自: 223.137.139.96 (台湾)
※ 文章网址: https://webptt.com/cn.aspx?n=bbs/NEMS/M.1716820133.A.306.html
1F：推 huangsw: 有没有试过SU8? 05/29 21:35
2F：推 hafat: AZ12XT可以轻易达到厚膜需求 06/02 09:33
3F：推 sunchloveann: 呵呵 我通常会问你有没有降转速去转AZ4620 06/11 00:01
4F：推 sunchloveann: 1000转 大概有16um 06/11 00:01
5F：推 sunchloveann: 750rpm也有 06/11 00:01
6F：推 a12121415: 硬烤温度60度，过个半天在用90度烤一天，就可以当硬挡 05/05 03:04
7F：→ a12121415: 层 05/05 03:04