作者fishsolely (fish)
看板NEMS
标题[问题] 玻璃蚀刻制成问题
时间Fri Mar 23 18:11:50 2018
大家好 小弟第一次作玻璃蚀刻制程失败 有问题想问各位大神
以下是我的制程
我的基本是24*50mm的玻璃盖玻片
光罩主流道宽500Micrometer 中间尖端流道为5Micrometer 大概长这样 [==><==]
清洗基板
丙酮+超音波震荡5分钟 DIwater超音波震荡5分钟
异丙醇+超音波震荡5分钟 DIwater超音波震荡5分钟
氧电浆在清洗一次
旋涂HMDS(我是用六甲基二硅烷)
旋涂HMDS 烤60度 5分钟 等冷却
旋涂S1813 厚度约1.3Micrometer，烤60度 5分钟
曝光365nm 24秒
我用MP351显影 有和DIwater 1:3 显影30秒
最後用BOE(6:1)吃 做 2 4 6 8 10分钟做 蚀刻速率表
最後清洗晶片时 用丙酮+超音波震荡 发现光阻很快就溶於丙酮内
BOE吃10分钟深度才1.3um
然後有板上说 他们用HMDS 90度1分钟 S1813 115度 60秒 OR 105度 120秒
是否是因为我S1813在烤时温度不够而影响最後结果
小弟跪求大神解惑
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1F：推 cupidboy: 虽然不懂这个 但蚀刻速率跟光阻烤温没关西 03/23 19:00
2F：推 cupidboy: 只跟蚀刻溶液浓度 与温度比较有关 03/23 19:02
3F：→ cupidboy: 跟光阻有关就代表你光阻没显开 03/23 19:04
4F：→ cupidboy: 另一个可能 你未含水蚀刻一开始有气泡阻挡蚀刻 03/23 20:07
5F：推 funkeinstein: 一般吃玻璃要用a-Si or Cr Au挡 或你用RIE硬敲也可 04/06 13:18