作者jaychou515 (Hoshiya)
看板NEMS
标题[问题] 显影後图形变形
时间Sun May 24 22:55:04 2015
最近刚接触黄光微影，
遇到了以下问题，想请各位前辈指导一下。
第一次显影图形过显，所以就把光阻洗掉重做。
但之後就发生了图形变形的情况：
http://i.imgur.com/lnxdYUn.jpg
http://i.imgur.com/dZVncVe.jpg
检查曝完光的光罩，多了残留的透明物体：
http://i.imgur.com/vwGFGKw.jpg
http://i.imgur.com/nkLzA9t.jpg
重做很多次都还是发生这种情形，
不晓得有没有前辈知道原因，谢谢。
P.S. 我是用HMDS+S1813
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1F：推 SkyLark2001: Hard contact 太超过，导致光阻沾黏光罩 05/25 01:16
2F：推 SkyLark2001: 通常也伴随软烤温度过低或时间不足，或是过曝的因素 05/25 01:18
3F：推 SkyLark2001: 证据是这种沾黏只出现在透光的地方 05/25 01:20
4F：推 SkyLark2001: 所以改善方式是以改进软烤以及曝光参数为主，而不是 05/25 01:22
5F：推 Colula: 如sky所说的，应是光酸反映太多造成氮溢出，加高烤温与时 05/25 01:23
6F：→ SkyLark2001: 改hard contact, 另外光罩要拿去彻底洗静 05/25 01:23
7F：→ Colula: 间应可改善 05/25 01:24
8F：推 SkyLark2001: PAG....C 兄是高手喔 05/25 01:27
9F：→ jaychou515: 感谢大家的指导，我加长软烤时间後解决了这个问题！ 05/25 19:15