作者imsaint (Aitu)
看板NEMS
标题[问题] 请问负光阻 JSR THB-151N
时间Tue Apr 21 11:13:20 2015
请问我在 显影 THB-151N 时
显影一超过四分钟 把 Wafer 拿起来 光阻都被洗掉
虽然有尝试过加入曝後烤 但长时间显影下 光阻一样会掉 不知是何种原因?
参数 :
1. 光阻厚度 : 54 um
2. 软烤 : 90 度 15 分
3. 曝光 mode : soft contact
4. 曝光时间 : 70 s
5. 曝光剂量 : 约 1000 mJ
6. 显影剂 : AD 238
这问题困扰很久 谢谢
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1F：推 jeffdon2: 软考温度过低，要120度，而且此光阻不需要曝後考 04/21 15:31
2F：→ jeffdon2: SOP上的软考温度是130度，但是显影会不太乾净 04/21 15:32