作者bibbytoto (兔子)
看板NEMS
标题[问题] TiO2蚀刻问题
时间Tue Feb 18 19:34:27 2014
小弟的实验是在Si基板正反两面镀上不同厚度的TiO2，然後做成MIS结构做CV量测
有几个问题想请教版上各位大大使用哪种方法来蚀刻会比较好
方法1.先在基板正面旋涂上光阻再烤乾,接着使用49%的HF来蚀刻
方法2.使用RIE做蚀刻但不确定该通甚麽气体
请问各位大大小弟的方法可行吗?
烦请各位指教
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 220.143.64.71
1F：→ SkyLark2001:TiO2 dry/wet etching都有人做，各有优缺点，看 02/19 06:08
2F：→ SkyLark2001:你怎样取舍选择 02/19 06:09