※ 引述《nasa01 (123)》之铭言： : 标题: [问题] su8 100 厚度 : 时间: Wed Aug 7 12:09:03 2013 : 请问一下哪边环节出了问题? 做了好几十次都会厚度不足 : : -- :

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) : ◆ From: 203.64.97.123 : 推 SkyLark2001:既然都上网查了，为什麽不用microChem的官方参数？ 08/07 13:54 : 推 SkyLark2001:http://microchem.com/pdf/SU8_50-100.pdf 08/07 13:59 : → SkyLark2001:光阻厚度取决於spin cycle, MicroChem一律都是转30S 08/07 14:00 : → SkyLark2001:所以我会选择用1750rpm转30S，再针对转出来的厚度 08/07 14:01 : → SkyLark2001:增加或减少。至於table1跟fig1显示还不一样，你可以 08/07 14:01 : → SkyLark2001:2000 rpm跟1750 rpm都试试看 08/07 14:01 : → nasa01:参数是这个pdf没错，还是我看错了? 08/07 18:48 : → nasa01:即使是图一，也是100um,可是我的都是70-80um 08/07 18:50 : → nasa01:所以是，300转30秒，1750转30秒?? 08/07 18:59 PDF第二页左下角有一段 The recommended coating conditions are: 用表来表示就是 speed(RPM) Ramp(RPM/S) Dwell(S) Spread 500 100* 5-10** Spin X 300 30 * :由0升至500rpm的加速度 **:在500rpm时维持住的时间 x :参照图1，依据所欲厚度所订出的转速 不同厂商做出来的spinner设定不同，你就依据上表去改就可以了。 补充，讲到光阻厚度，很多人直觉影响最主要的就是转速。但往往因此忽略第二重要的 变数就是spin的dwell时间。MicoChem所有型号SU-8的datasheet公定spin dwell time 一律是30s，他们的图一也都是根据转30s得来的结果。这也就是为什麽我一看到你参数 就先猜你不是用官方参数的原因。 另外一点要补充的是spin 30s的原因是因为在那附近转出来的光阻uniformity最好 尤其是动辄上100microns的厚光阻，你转到60S，uniformity变差，整片wafer 中心到边缘中间那部分会最薄，中心较厚，边缘最厚，其差异甚至可到十数 microns 你全都量一遍就了解了 对了补充三。我自己照着SU-8官方参数做，实际厚度也很少跟datasheet一样的。 通常会略薄，你若2000 rpm 30s做出来不行就改1750rpm 30s,再不行就看差距大不大， 可以50rpm或是100rpm或是更大差距这样的降低转速。等试到了正确的厚度， 你自己的厚度转速表(如表一)也出来了，摆在论文里不觉得很帅吗？ ker ker -- 本球队一切依法行政，谢谢指教。 --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 76.22.72.248 ※ 编辑: SkyLark2001 来自: 76.22.72.248 (08/08 02:14) ※ 编辑: SkyLark2001 来自: 76.22.72.248 (08/08 02:38) 这些层很麻烦，可能要一层一层试(因为每一层材料都不同)，每一层都建立自己的 转速-厚度表。 另外关於温度湿度，温度方面其实我真的不熟，湿度方面因为之前我的实验室 因为其他工程师抱怨，所以还特别加装喷水装置来加湿。不过我查了一下， http://proceedings.spiedigitallibrary.org/proceeding.aspx?articleid=995036 看样子就算湿度变化到几十度，对50um厚度的影响还是不会太大。 最大的影响是那些要做ebeam lithography的人，因为他们是转nm等级的厚度。 加上湿度的影响是因为跟光阻内的溶剂挥发有关，若PDMS本身solvant 组成没有光阻 那麽重，那影响就又更少了 (抱歉我对PDMS成分不熟) ※ 编辑: SkyLark2001 来自: 205.175.124.113 (08/09 03:08)