这个星期接到显影液厂商通知要涨价了
我们光阻使用的是AZ 5214、4620
显影液用Dow chemical 的 MF-319与MP-351
其涨幅分别为+30%与+175%(是的，你没看错!!)
由於涨的太离谱了，我想要寻找合适的替代品
就我所知，基本上319与351都是以TMAH为基底，配上NMP溶剂稀释
想请问的是，对於1um~sub um的光栅结构
若用TMAH 2.38%加水稀释来充当显影液是否行得通，还是需要以NMP来稳定化性?
若是用水稀释不可行，由於TMAH有神经毒性，NMP也不是好惹的
我比较倾向购买请厂商调配好TMAH+NMP的配方
或者，有其他款的显影液可用於AZ系列光阻
若板友有甚麽样的建议，还请指教，
Thanks
※ 编辑: Colula 来自: 111.251.230.31 (05/02 00:51)
1F：推 bbdd203:4620 我用过台公司的EPD-1000 跟AD-10 都是TMAH 2.38% 05/02 01:56
2F：→ bbdd203:也是蛮便宜的 不过没显过1 micron以下过 05/02 01:57
3F：推 SkyLark2001:你们做的不是电子元件所以4630用 AZ400K就可以了 05/02 03:43
4F：→ SkyLark2001:对水稀释1:4，用量还算省 05/02 03:43
5F：→ SkyLark2001:第一句打错，是4620不是4630 05/02 03:44
6F：→ Colula:想请问一下s大,我们是作光电雷射半导体的,若将4620用水 05/02 12:51
7F：→ Colula:用水稀释後,有可能的影响为何?尤其是作Grating光栅结构,Thx 05/02 12:53
8F：推 SkyLark2001:你是要问AZ400K显影液吧吧？AZ400K含钾离子，一些MOS 05/02 13:16
9F：→ SkyLark2001:元件要避免用这些含离子的显影液。你的元件看有没有差 05/02 13:18
10F：→ SkyLark2001:没差的话，AZ的光阻用AZ公司的显影液，再合理也不过了 05/02 13:18
11F：推 SkyLark2001:帮你查好了，你用的MF319是强调metal-ion-free的，但 05/02 13:31
12F：→ SkyLark2001:MP351不是，是氢氧化钠based含有钠梨子，所以若你可用 05/02 13:32
13F：→ SkyLark2001:MP351,那当然可用AZ400K 05/02 13:33
14F：→ Colula:非常感谢S大的回覆,让我学到很多,我之前还以为MP351与MF319 05/02 20:42
15F：→ Colula:同系,只是浓度不同，忽略了钾离子及NaOH base, Thanks 05/02 20:44
16F：→ yasuhiro:FHD-5 ?? 05/09 14:15