作者CC0303 (\宅宅/ \宅宅/)
看板NEMS
标题[问题] 曝光第二层问题
时间Tue Mar 12 14:52:54 2013
各位版友前辈好
小弟我今天图层第一层已经做好了
我要曝第二层时发现了一个很大的问题
因为我的光罩上有很多一样的图形
但其中一个图形的alignment key 对准後
其他的图形的就对不准...不知道有没有前辈也遇过这种问题
是哪边需要改进 麻烦请指导 感谢
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.117.165.40
1F：推 SkyLark2001:哪一台曝光机？找对准记号的时候调整过theta了吗？ 03/13 03:36
2F：→ CC0303:哪一台我不知道欸 中山奈米实验室的 theta? 03/13 16:25
3F：→ CC0303:x照理说一个图案准确 其他的应该会跟着对准阿 ~_~ 03/13 16:25
4F：推 SkyLark2001:对准都是要调整x, y 跟 theta 不是吗？ 03/14 17:45
5F：推 bbdd203:大概的SCALE是多少? 会不会是PROCESS WINDOW造成的? 03/31 11:43